Публичные новости

В России готовятся к созданию собственного литографа под нормы 90 нм

В России в 2026 году планируют начать разработку литографа для производства микросхем по нормам 90 нм. Об этом, по данным CNews, заявил замминистра промышленности Василий Шпак на XXI отраслевой научно-технической конференции радиоэлектронной промышленности 20 марта. Исполнителя проекта выберут по итогам конкурса.

Изображение сгенерировано ChatGPT

Одним из вероятных участников называют Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), который уже работает над литографами на 350 и 130 нм совместно с белорусским «Планаром». При этом в ЗНТЦ сообщили, что пока не решили, будут ли участвовать в новом конкурсе, так как рассчитывают завершить разработку 130-нм степпера в ноябре 2026 года.

По оценкам экспертов, создание 90-нм литографа на базе уже существующей платформы может занять 2-4 года и потребовать сотни миллионов долларов. Отмечается, что ключевые сложности связаны не только с самой установкой, но и с доступностью оптики, фотошаблонов, материалов и инженерных компетенций.

Сейчас в России завершена разработка литографа на 350 нм и продолжается работа над установкой, позволяющей производить чипы по техпроцессу 130 нм. Ожидается, что стоимость такой установки составит примерно 6 млн долларов, она позволит выпускать 100–140 пластин в час. 

Original: iXBT.com: новости

Средний рейтинг 0

Комментарии:

Здесь нет комментариев.
Здесь пока нет ни одного комментария, вы можете стать первым!

16+ Сайт может содержать контент, не предназначенный для лиц младше 16 лет