Достичь этого позволило повышение мощности литографической машины до 1000 Вт, что более чем на 50% выше мощности текущего инструмента NXE:3800E. При этом компания говорит, что уже сейчас видит чёткий путь к 1500 Вт, а относительно 2000 Вт как минимум не видит причин, которые бы препятствовали достижению этого значения. 

Современные EUV-сканеры ASML генерируют излучение, воздействуя на крошечные капли олова серией импульсов CO?- лазера. Этот метод достаточно эффективен для создания источника EUV-излучения мощностью 600 Вт и даже достижения 740 Вт в лабораторных условиях. Однако, чтобы получить источник мощностью 1000 Вт, ASML пришлось удвоить количество капель олова (до 100 000 в секунду), а затем создавать две последовательности лазерных импульсов вместо одной.  

Новая технология найдёт применение в машинах ASML примерно в 2030 году или чуть позже.