Фотолитограф ЗНТЦ предназначен для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении сверхбольшой интегральной схемы с проектной топологической нормой 350 нм. Договор включает поставку, монтаж и пусконаладку оборудования.

Генеральный директор АО «ЗНТЦ» Анатолий Ковалев подчеркнул:

Сегодня мы закладываем фундамент нового этапа развития отечественной микроэлектроники. В ЗНТЦ завершена разработка установки совмещения и проекционного экспонирования с разрешением 350 нм, ее параметры подтверждены на производственной площадке, осуществляется переход к серийному производству. Это первый шаг в создании линейки российских литографов. Создан серьезный задел, который позволяет нам перейти к разработке полностью локализованных установок с нормами 90 нм. 

Фотолитограф создан в рамках реализации одного из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350-130 нм. Он предназначен для модернизации существующих и оснащения новых микроэлектронных производств. Установка разработана и произведена в партнёрстве с белорусским ОАО «Планар».