Китайская Prinano (PuLin Technology) поставила свой первый самостоятельно разработанный наноимпринтный литограф PL-SR компании из КНР. Система предназначена для реального производства чипов. Prinano стала второй компанией после Canon, разместившей наноимпринтный литограф у клиента.
PL-SR поддерживает ширину линий менее десяти нанометров. Canon FPA-1200NZ2C способна создавать рисунки схем на полупроводниковых пластинах с минимальной шириной линии 14 нм. PL-SR позволяет производить чипы класса 5 нанометров, но в документах отмечено, что это вовсе не значит, что литограф Prinano может производить передовую логику по 5-нанометровому техпроцессу.
У нанопечатной литографии есть свои преимущества: ей не нужен источник экстремального ультрафиолета (EUV), используемых в коммерческой EUV-литографии, что снижает энергопотребление и стоимость оборудования. Компромиссом являются производительность и гибкость: нанопечать медленнее, чем обычная оптическая литография, и плохо подходит для сложных логических процессов со сложными шаблонами. Система Prinano хорошо подходит для производства флэш-памяти, но едва ли ее можно использовать для выпуска CPU и GPU.
Машина Prinano формирует рисунок на пластинах, прижимая жесткую кварцевую форму, выгравированную с наноразмерными схемами, к тонкому слою резиста, нанесенному струйной печатью. Струйный модуль системы динамически измеряет объем капель, чтобы сохранить тонкий остаточный слой (менее десяти нанометров с отклонением менее двух нанометров). PL-SR обрабатывает 300-мм пластины.
