Но куда более интересна долгосрочная перспектива, когда TSMC заменит CoWoS на SoW (System-on-Wafer): она обеспечит до 40x увеличение ретикля и поддержку 60 стеков HBM, что идеально подходит для ИИ-кластеров. Новая технология SoW-X обещает 40-кратный рост вычислительной мощности по сравнению с текущим CoWoS, хотя детали пока не раскрыты. Производство SoW и SoW-X стартует в 2027 году. 

В упаковке чипов, таких как CoWoS или SoW, размер ретикля указывает на площадь, которую можно обработать за один цикл литографии. Например, переход с 5,5x на 9,5x ретикля означает увеличение площади для размещения большего числа компонентов, таких как HBM-стеки, что повышает производительность и эффективность.