В течение многих лет в отрасли считали, что оборудование для EUV-литографии, производимое исключительно голландской компанией ASML, было незаменимым для изготовления чипов по технологии 5 нм и современнее. Без доступа к EUV-системам из-за экспортных ограничений, введенных США и их союзниками, большинство аналитиков полагали, что Китай остановится на отметке 7 нм.

Вместо этого SMIC продвигалась вперед, используя методы DUV, выжимая каждый нанометр из стареющих инструментов. По словам Хуо, это включало в себя наложение нескольких этапов литографии и травления, в частности, с использованием SAQP, чтобы имитировать точность EUV. Метод медленнее, более подвержен ошибкам и дорог, но он работает.

Стоит добавить, что современные литографические машины ASML на базе технологии High NA EUV размером с грузовик стоят более 300 миллионов евро.