Министерство промышленности и информационных технологий Китая опубликовало документы, касающиеся разработанной в стране отечественной машины для литографии. Это машина относится к классу систем литографии в глубоком ультрафиолете (DUV), тогда как ASML уже давно перешла на литографию в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). 

Китайская машина способна производить полупроводники по техпроцессу 65 нм, используя излучение с длиной волны в 193 нм. Это уровень машин ASML из 2009 года. Более того, даже столь старые машины голландской компании были лучше, потому что у них спецификации наложения составляли менее 2,5 нм, а у китайской разработки — 8 нм. 

То есть разрыв между разработками ASML и китайских инженеров составляет около 15 лет. Стоит отметить, что та же SMIC сейчас производит чипы по нормам 7 нм, а не 65 нм, но использует для этого относительно устаревшие машины той же ASML. А сейчас даже такие машины эта компания в Китай может поставлять только после получения лицензии.